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【国内论文】山东师范大学——含Sn杂质电补偿的 α-Ga₂O₃ 薄膜的光学和电学传输特性

日期:2025-02-11阅读:156

        由山东师范大学的研究团队在学术期刊 AIP Advances 发布了一篇名为 Optical and electrical transport properties of α-Ga2O3 thin films with electrical compensation of Sn impurities (含 Sn 杂质电补偿的 α-Ga2O3 薄膜的光学和电学传输特性)的文章。

摘要

        通过磁控溅射在 BaF2 衬底上生长了含有次生相 SnO 的多晶 α-Ga2O3 薄膜。通过二次离子质谱和霍尔效应实验确定,α-Ga2O3 薄膜的杂质锡浓度、电子浓度和室温迁移率分别为 4.5 × 1020 cm−3、1.5 × 1015 cm−3 和 26.9 cm2 V−1 s−1。迁移率与温度的关系证实,电子主要受到极性光学声子散射和电离杂质散射的影响,温度范围为 160-400 K。通过对数电阻率与温度倒数的关系,确定了两个电离能,分别为 29 和 71 meV,其中前者是锡掺入镓位点形成的浅施主 SnGa。后者是与二次相 SnO 相关的浅受主 VSn-H,正是这种浅受主的电补偿导致了 α-Ga2O3 薄膜的极低载流子浓度。光致发光谱显示 280 和 320 nm 的紫外辐射,其中 280 nm 归因于被深施主态 (EC-1.1 eV) 捕获的电子与被 VSn-H 复合体捕获的空穴的辐射复合。此外,在可见光区域有几个窄辐射峰,在排除干涉和衍射影响后,逐一确定了参与辐射跃迁的能级。

图 1. 在 BaF2 上生长的 Sn 掺杂 Ga2O3 薄膜的 XRD 图

图 2. α-Ga2O3 薄膜中杂质 Sn 浓度和原子(O 和 Ga)百分比含量的 SIMS 深度曲线。

DOI:

doi.org/10.1063/5.0244593