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【会员论文】通过能带偏移工程实现高灵敏度和快速响应的日盲光探测器

日期:2025-09-04阅读:13

        东北师范大学徐海阳教授,马剑钢教授等人发表了题为“High-sensitivity and fast-response solar-blind photodetectors via band offset engineering for motion tracking的工作于 Nat.Commun.期刊上

        本研究介绍了一种基于Ga₂O₃/AlN/AlGaN:Si异质结构的自供电太阳盲光探测器,通过极化场诱导的能带弯曲,实现了高响应度(0.73 A/W)和快速响应时间(56 μs)。这种高性能光探测器使得256×256分辨率的太阳盲单像素成像成为可能,可用于静态指纹和移动目标的成像。提出的能带偏移工程策略为开发太阳盲光探测器和成像技术开辟了新途径。

背景

        太阳盲光探测和成像系统利用最小的背景干扰,广泛应用于军事和民用领域,如安全通信、导弹制导、火焰感应和电晕放电观测。当前的系统主要采用基于硅的电荷耦合器件(CCD)、互补金属氧化物半导体(CMOS)传感器和光电倍增管(PMT)。然而,CCD和CMOS传感器需要额外的滤光片来阻挡可见光和红外光,增加了系统的复杂性和重量。PMT则体积庞大,需要高工作电压。超宽带隙半导体焦平面阵列提供了太阳盲成像的紧凑替代方案,但在集成过程中面临挑战。最近,有研究报道了使用单个超宽带隙半导体光探测器进行太阳盲成像,但逐像素扫描过程对于实时成像来说太慢。相比之下,单像素成像技术利用结构光调制来捕获空间场景细节,仅使用一个光探测器记录调制光强度,具有快速图像捕获的优势,并已在可见光和X射线光谱中得到验证,被认为是有前途的太阳盲成像技术。

 

主要内容

        本研究提出了一种自供电太阳盲光探测器,基于Ga₂O₃/AlN/AlGaN:Si异质结构,其中Ga₂O₃作为光敏层,AlN作为势垒层,AlGaN:Si作为接触层。AlN层内的极化场诱导能带弯曲,形成势阱,限制光生空穴,从而产生光电流增益。因此,Ga₂O₃/AlN/AlGaN:Si太阳盲光探测器实现了0.73 A/W的高响应度和56 μs的快速衰减时间。这种性能使得256×256分辨率的太阳盲单像素成像成为可能,可用于静态指纹和移动目标的成像。提出的能带偏移工程策略为开发太阳盲光探测器和成像技术开辟了新途径。

 

实验细节概括

        实验中,首先通过磁控溅射在c面蓝宝石衬底上制备了N极性的AlN模板,然后通过金属有机化学气相沉积(MOCVD)在N极性AlN模板上生长了AlN和AlGaN:Si层。Ga₂O₃层通过MOCVD在AlN缓冲层上外延生长。

 

创新点

        1.自供电太阳盲光探测器:提出了一种基于Ga₂O₃/AlN/AlGaN:Si异质结构的自供电太阳盲光探测器,无需外部偏置电压。

        2.高响应度和快速响应:实现了0.73 A/W的高响应度和56 μs的快速衰减时间,解决了传统太阳盲光探测器响应度和响应速度之间的固有折衷问题。

        3.能带偏移工程:通过极化场诱导的能带弯曲,形成了空穴限制的势阱,实现了高响应度和快速响应。

        4.单像素成像应用:利用高性能光探测器实现了256×256分辨率的太阳盲单像素成像,可用于静态指纹和移动目标的成像。

 

结论

        本研究展示了一种基于Ga₂O₃/AlN/AlGaN:Si异质结构的自供电太阳盲光探测器,通过极化场诱导的能带弯曲,实现了高响应度和快速响应。这种高性能光探测器使得256×256分辨率的太阳盲单像素成像成为可能,可用于静态指纹和移动目标的成像。提出的能带偏移工程策略为开发下一代高性能太阳盲光探测器和成像技术开辟了新途径。

 

结果与讨论

图1 | 日盲成像系统设计方案及所需日盲光电探测器特性。a,单像素成像系统示意图,详细展示包含光源、目标物体、数字微镜器件和探测器在内的核心组件。b-c分别展示界面无极化电荷的nBn++结器件结构示意图(b)和载流子动力学过程(c)。d-e分别展示界面含极化电荷的nBn++结器件结构示意图(d)和载流子动力学过程(e)。f-g展示单像素成像应用所需日盲光电探测器的高速响应特性(f)与高响应度特性(g)。

图2 | 氮极性氮化物上外延生长Ga2O3的原子结构。a,c面蓝宝石衬底上Ga2O3/AlN(Ⅱ)/AlGaN:Si/AlN(Ⅰ)叠层的AC-TEM图像。比例尺200nm。b-d分别为上层AlN(II)层(b)、AlGaN:Si层(c)和底层AlN(I)层(d)的高倍AC-TEM图像,插图中原子排列示意图标明了氮化物的N极性特征,白色虚线表示AlN(001)晶面间距。e,AlGaN:Si/AlN(I)界面区域的高倍AC-TEM图像,显示AlGaN:Si层保持了AlN(I)模板的N极性。比例尺1nm。f-g分别为Ga2O3/AlN(II)界面区域(f)和Ga2O3层(g)的高倍AC-TEM图像,呈现AlN(II)辅助成核生长模型中Ga2O3的锯齿状结构。比例尺分别为5nm(f)和1nm(g)。h-j分别为Ga2O3层(h)、AlGaN:Si层(i)和AlN(I)层(j)的FFT衍射花样。比例尺5nm⁻¹。
图3 | 自供电日盲光电探测性能。a,Ga2O3/AlN/AlGaN:Si光电探测器结构示意图。b,暗态及不同强度245nm光照下的电流-电压半对数特性曲线。c,暗态及不同强度245nm光照下的电流-时间半对数特性曲线。d,0V偏压下器件响应度随波长变化关系,插图为半对数坐标展示。e,0V偏压下248nm脉冲激光激发的瞬态光响应曲线,插图为响应上升时间曲线。f,Ga2O3/AlN/AlGaN:Si光电探测器与Ga2O3及AlGaN基p-n结、n-n结和肖特基结日盲光电探测器在响应度和下降时间方面的性能对比。
图4 | Ga2O3/AlN/AlGaN:Si异质结的能带图和电场分布。a,AlGaN:Si与AlN、AlN与Ga2O3的态密度(DOS)。b,不考虑极化效应时AlGaN:Si/AlN和AlN/Ga2O3界面的能带排列。c,AlGaN:Si/AlN和AlN/Ga2O3界面的电荷位移与电荷差曲线。d,极化作用下Ga2O3/AlN/AlGaN:Si异质结的能带图。e,极化作用下Ga2O3/AlN/AlGaN:Si异质结的电场分布图。f,阐述Ga2O3/AlN/AlGaN:Si异质结光电探测机制的能带示意图。
图5 | 运动与静止物体的日盲紫外成像。a,单像素成像实验装置示意图。b,基于Hadamard矩阵进行光场调制的单像素成像原理。c,成像样本(左)包括字母"NENU"、数字"7"以及"花朵"、"马匹"和"指纹"图案,及其对应的256×256像素重建图像(右)。比例尺为3毫米。d,分辨率64×64像素的移动"飞机"实时成像。比例尺为3毫米。
文献:

https://doi.org/10.1038/s41467-025-63683-w