【会议论文】mist CVD法演示使用β-Fe₂O₃缓冲层的δ-Ga₂O₃外延薄膜

        论文简介：来自京都工艺纤维大学电子系和电气电子工学系的T. Kato，H. Nishinaka，K. Shimazoe和M.Yoshimoto联合发表的一篇名为《Demonstration of δ-Ga₂O₃ epitaxial thin films using β-Fe₂O₃ buffer layers by mist CVD》的论文文章。该文章介绍了关于β-Ga₂O₃外延薄膜。