【会员论文】南邮唐为华团队&内蒙古大学&浙江理工大学:费米能级无钉扎二维混合MXene/β氧化镓范德华极化敏感SBD
日期:2025-12-05阅读:30
由南京邮电大学唐为华教授团队联合内蒙古大学、浙江理工大学在学术期刊 Laser & Photonics Reviews 发布了一篇名为 Fermi-Level Pinning-Free 2D Hybrid MXene/β-Ga2O3 van der Waals Polarization-Sensitive Schottky Photodiodes(费米能级无钉扎二维混合 MXene/β-Ga2O3 范德华极化敏感肖特基光电二极管)的文章。
背 景
深紫外(DUV)光电探测器是固态光电系统中的核心组件,在深空探测、环境监测和物联网(IoT)等领域具有重要应用价值。传统金属-半导体(MS)界面普遍存在费米能级(FL)钉扎效应,导致肖特基势垒高度(SBH)难以通过金属功函调节,严重限制了器件的电学和光电性能。β-Ga2O3 作为超宽禁带半导体,其 FL 易受缺陷影响而偏离理论值,导致响应速度慢和暗电流高。引入二维材料 MXenes 作为肖特基接触电极,利用其可调的功函和范德华(vdW)接触特性,有望减轻或消除 FL 钉扎,从而提升器件性能。
主要内容
金属-半导体(MS)界面在电子和光电子器件中起着关键作用,其中费米能级(FL)钉扎是形成肖特基势垒的主要机制。该界面处的电子态和缺陷会显著影响载流子传输特性。传统金属电极常引入强烈的费米能级钉扎效应,限制器件性能。因此亟需构建低接触电阻且费米能级钉扎效应弱的MS界面。本文提出一种高性能 MXene/β-Ga2O3 范德华(vdW)肖特基光电二极管。独特的 MXene/β-Ga2O3 界面通过实现 0.995 的钉扎因子显著缓解了弗里德曼钉扎效应,该数值已逼近肖特基-莫特极限。在此条件下,该范德华肖特基光电二极管的整流比接近109,反向漏电流仅约 10-12 A。该光电二极管展现出卓越的自供电光响应特性:上升/下降时间分别为 0.27 毫秒和 0.29 毫秒,响应度达 125.1 毫安/瓦。值得注意的是,该器件在零偏压下呈现线性二色比为 7.1 的偏振敏感光探测能力。这些发现凸显了 MXene/β-Ga2O3 范德华肖特基光电二极管在下一代深紫外(DUV)光电子技术中的应用前景,其卓越性能有望推动物联网及节能系统领域的创新应用。
创新点
● 首次成功构建了二维杂化 MXene/β-Ga2O3 范德华肖特基光电二极管。
● 首次在 β-Ga2O3 基器件中实现了接近无费米能级钉扎的金属-半导体接触,极大地改善了界面质量和电荷传输效率。
● 首次将自驱动、超快响应、高响应度和高偏振敏感性等优异特性集成于同一个 β-Ga2O3 基肖特基光电二极管中。
总 结
研究团队提出的 Ti3C2TX/β-Ga2O3 范德华肖特基光电二极管解决了磁性薄膜接触中长期存在的 FL 钉扎效应难题。与 Ni/β-Ga2O3 接触相比,Ti3C2TX/β-Ga2O3 范德华接触的 Dit 值降低约 10 倍。本器件的 S 值已逼近 Schottky–Mott 极限。这一关键性突破显著提升了响应速度,使器件在动态场景中能以更高效率和精度运行。除速度优势外,该器件在深紫外偏振光检测领域展现出卓越性能,成功实现了高质量深紫外偏振光检测成像。更值得关注的是,该器件凭借其全面的先进特性与可靠性能,完全能够满足现代人工智能系统日益严苛且不断演进的需求。其快速信息处理能力、精准检测特殊光信号的能力以及生成清晰成像数据的能力,为新一代人工智能技术开辟了崭新道路。
期刊介绍
Laser & Photonics Reviews 是光学领域国际顶级期刊,五年影响因子稳定在 10.7-11.1,位列 JCR 光学领域 Q1 区。涵盖超表面调控、光子晶体、光电子器件、激光光谱学等12个细分领域。
项目支持
本研究得到国家自然科学基金联合基金(U23A20349)、国家自然科学基金(62204125、62305171、 62564011、62501320),苏州市重点科技项目(SYG2024003),江苏省创新创业团队(JSSCTD202351), 内蒙古自治区高校创新研究团队建设项目(NMGIRT2503)、内蒙古自治区科研启动基金(21700-252904、21700-252905)、 内蒙古大学引进高层次人才“骏马计划”(10000-A24199006、10000-A24106015),以及内蒙古大学2025年度实验技术研究项目(自制与改造设备项目)(SYJS2025004) 。

图1 (a) β-Ga2O3 的 X 射线衍射图谱。(b) β-Ga2O3 衍射峰全宽半高值。(c) β-Ga2O3 的高分辨率透射电子显微镜图像。(d) Ti3C2Tx 薄膜的表面表征及厚度(插图)。(e) Ti3C2Tx 与 β-Ga2O3 界面透射电子显微镜图像。(f) Ti 和 Ga 元素的能谱元素映射图。

图2 (a) Ti3C2TX/β-Ga2O3 范德华肖特基光电二极管示意图。(b) 光电二极管的光响应光谱,插图为单个完整器件。(c) β-Ga2O3 的吸光度光谱,插图为对应的 Tauc 图。(d) 该光电二极管的 I-V 曲线。(e) 提取的光电二极管暗电流 Isc 与光照密度关系。(f) 0 V 电压下光电二极管的 I-t 曲线。(g) 该光电二极管的电阻 R 与有效量子效率 EQE。(h) 不同光照密度下 255 nm 光照射的 pel 值。(i) 该光电二极管的 FF 值与 PCE 值。

图3 (a) Ni/Au 与 Ti3C2TX 肖特基电极的 h(j) 随 j 变化曲线线性拟合。 (b) 采用传统 Ni/Au 接触与 Ti3C2TX 范德华接触的 β-Ga2O3 能带结构。(c) 根据金属功函数绘制的肖特基势垒高度提取值。(d) 本研究及其他研究中用于缓解磁体钉扎效应的方案比较。

图4 Ni 与 β-Ga2O3 的能带对齐关系:(a)接触前;(b)接触后。mxene 与 β-Ga2O3 的能带对齐关系:(c)接触前;(d)接触后。

图5 (a) β-Ga2O3 在平行偏振配置下的拉曼图谱 (b) β-Ga2O3 在交叉偏振配置下的拉曼图谱。(c) 不同旋转角度下平行偏振配置的拉曼成像图。(d) 不同旋转角度下交叉偏振配置的拉曼成像图。(e) 不同旋转角度下偏振光照射下的光响应。(f) 不同偏压下偏振光照射下的 Iphoto 成像图。

图6 (a) Ti3C2TX/β-Ga2O3 范德华肖特基光电二极管的暗电流曲线。(b) Ti3C2TX/β-Ga2O3 范德华肖特基光电二极管的光电流曲线。(c) 光探测器阵列所有单元的光暗电流曲线。(d) 极化成像传感器的示意图。(e) 0° 角下字母“l”的成像效果。(f) 图 6e 对应的 I-t 曲线。(g) 90° 角下字母“l”的成像效果。(h) 图 6g 对应的 I-t 曲线。
DOI:
doi.org/10.1002/lpor.202502467














