【会议论文】在ScAlMgO₄衬底上通过Mist-CVD法生长Ga₂O₃薄膜

        论文简介：来自立命馆大学、京都大学桂校区、日本OXIDE和日本FLOSFIA的S. Yamashita、H. Takane、J. Wada、Y. Yamafuji、J. Kikawa、M. Matsukura、T. Kojima、T. Shinohe、K. Kaneko和T. Araki联合发表了一篇名为《Growth of Ga₂O₃ film on ScAlMgO₄ substrate by Mist-CVD》的论文文章。该文章介绍通过Mist-CVD法生长Ga₂O₃薄膜。