【会议论文】双层Al₂O₃/Ga₂O₃堆栈用于无扇贝的深沟隔离

        论文简介：来自阿卜杜拉国王科技大学高级半导体实验室和印度理工学院电子和通信工程系的Mritunjay Kumar、Vishal Khandelwal、Saravanan Yuvaraja、Yi Lu、Biplab Sarkar和Xiaohang Li联合发表了一篇名为《Bilayer Al₂O₃/Ga₂O₃ stack for scallop-free deep trench isolation》的论文文章。该文章介绍双层Al₂O₃/Ga₂O₃堆叠用于无蚀刻深沟隔离。