【会员新闻】相约呼和浩特|镓仁半导体诚邀各界同仁共赴MOCVD 2026
日期:2026-07-27阅读:129
7月27日至29日,第十九届全国MOCVD学术会议将在内蒙古呼和浩特举行。本届会议将围绕“材料生长、表征与装备”“功率电子与射频器件”“光电子器件与应用”“超宽禁带半导体与前沿交叉”“新型器件及面向AI等新应用”五大核心议题展开研讨,为MOCVD技术交流、产业协同与成果转化搭建高水平平台。
杭州镓仁半导体有限公司(以下简称“镓仁半导体”)受邀参与本次会议,与来自高校、科研院所及产业链上下游的专家同仁深入交流,共同探讨氧化镓材料生长、外延调控及产业化应用等关键问题。
会议期间,浙江大学材料科学与工程学院、杭州国际科创中心双聘教授,镓仁半导体董事长张辉,将于7月28日上午作大会报告,围绕《高质量大尺寸氧化镓MOCVD同质外延的进展与挑战》分享大尺寸氧化镓同质外延领域的前沿进展与产业化思考。

值此行业盛会召开之际,镓仁半导体将同步推出氧化镓外延片限时特惠活动,以更完善的产品规格与更具竞争力的价格,为科研院所、高校及器件企业提供高质量材料保障。具体产品信息及优惠细则,欢迎会议期间与我们联系、洽谈。
从单晶生长、衬底制备到外延加工,镓仁半导体始终坚持自主技术路线,持续推进氧化镓材料的工程化与规模化应用。我们期待与各界同仁相聚呼和浩特,共话技术前沿,共探产业未来。7月27日—29日,镓仁半导体与您相约第十九届全国MOCVD学术会议!
关于镓仁
杭州镓仁半导体有限公司是全球领先的氧化镓材料与设备解决方案提供商,专注于超宽禁带半导体领域的技术研发与产业化落地。公司核心产品包括:2-8英寸氧化镓单晶与衬底(其中8英寸为国际首发)、氧化镓垂直布里奇曼法(VB法)长晶设备、2-8英寸氧化镓同质外延片(其中8英寸为国际首发)等,致力于构建 “设备-晶体-衬底-外延” 全链条产品体系,为全球客户提供系统性解决方案。公司在氧化镓领域的相关成果获得人民日报、新华社、科技日报、新浪财经、中国蓝新闻、澎湃新闻等知名媒体专题报道。
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