【会议论文】用mist-CVD技术生长不同浓度的In₂O₃粉末作为源前体的α-In₂O₃薄膜

        论文简介：来自日本工学院大学、日本立命馆大学、东京农工大学和京都大学的A. Taguchi1、K. Kaneko、K. Goto、T. Onuma、T. Honda、Y. Kumagai、S. Fujita和T. Yamaguchi联合发表了一篇名为《Growth of α-In₂O₃ films with different concentrations of In₂O₃ powder used as source precursor by mist CVD》的论文文章。该文章介绍了用mist-CVD技术生长不同浓度的In₂O₃薄膜。