【专家访谈】8 MV/cm之后，氧化镓需要证明的不只是性能而是价值——NextGO Epi周大顺博士的产业现场观察

        这次 IWGO 2026 最直接的感受是：氧化镓社群真的壮大了。

        此次大会的报名人数为历届之冠，总计 288 人，相较于第一届京都大会的 86 人，成长超过三倍——而这还是在中国大陆学者受限、未能出席的情况下所呈现的盛况。

        对比过往几届大会，一个趋势已相当明显：器件端的验证工作大量涌现，各类器件设计与高电压表现百花齐放，尤其是垂直器件，基本上已是氧化镓功率组件的未来；材料端则相对内敛，学者们的关注焦点转向各类缺陷的成因与影响，并提出新颖的生长方式与晶面选择，力求进一步降低缺陷密度与衬底成本。其中最受注目的，就是日本 NCT 的 DG 法与日本 FOX 的 OCCG 法——作为无坩锅生长的突破性方法，至少在理想层面，可以将六吋衬底做到 100 美元以下，当然，距离量产仍一如既往，得从五年起跳。与此同时，各公司也纷纷展示大尺寸衬底与外延（六吋）的成果。

        整体而言，氧化镓的研究发展已从百家争鸣的生长期（2012–2022）进入平稳期：基础材料研究告一段落，社群开始有共识地往特定、可量产的技术路径收敛——衬底集中在 EFG 与 VB，外延则以 MOCVD 和 HVPE 为主。而在这个相对成熟的主轴之外，令人惊艳的 Al 合金 2DEG 量测结果，以及无坩锅长晶技术的进展，也为氧化镓未来的价格与应用空间增添了不少想象空间。

        若要精炼这次 IWGO 的内容，我会用两个问题概括：哪个晶面合适？何时会有可靠的氧化镓器件？为了进一步提升器件性能与外延质量，社群开始将目光从过往主流的 (001) 与 (010) 晶面，扩展至 (011)、(-102)、(100) 等过去相对冷门的晶面。对于这股讨论热潮，我乐见其成，但也担心偏离重点——对外延与器件的研发人员而言，衬底的良率与未来价格，其实远比晶面的选择更关键。与其花十年寻找一个「完美」晶面（姑且不论它是否存在），不如在一个成熟且便宜的晶面上，扎实发展出一套可靠的组件制程。

        现阶段的氧化镓，太需要一个可靠且性能显著的组件，来向市场证明自身价值了。会议中有不少从 SiC 一路奋战过来的半导体人提到：SiC 的综合高压性能（崩溃电压与导通电阻）对 Si 是近百倍的辗压，而氧化镓对 SiC 可能最多只有十倍——这到底值不值得我们大量投入？这有点像我们常说的『利不百，不变法』。这或许是我们氧化镓从业者要尽快回答的问题。

        在大会第三晚的圆桌讨论中，受邀讲者与听众就氧化镓的前景（对照 SiC）达成了一个重要共识：与其分散心力，氧化镓更该专心聚焦于发展一个能真正发挥 8 MV/cm（至少接近）崩溃电场的可靠组件——这是它唯一、也最可靠的优势。至于价格？氧化镓在碳化硅面前，价格优势依旧不值一提；况且氧化镓真正的成本优势，理应在系统级别上展现，而非单一 die 的售价比较。Power America 的 Veliadis 博士，以其二十年 SiC 产业经验预测，氧化镓的第一个成熟的产品应会是 3.3 kV 的 SBD 器件，并以此为起点朝 20 kV 迈进。

        由于主办地缘故，讲者的观点多以欧美视角出发，所幸黄文海老师位列其中，为大家展示了这个房间里的大象——中国。相比往届的 IWGO，今年终于有 Mitsubishi、Infineon 等国际大厂的人员开始参与会议，这或许要归功于中国这个功率半导体最大市场的发力。相比欧美诸国，中国在产业化的进程上遥遥领先，不论是公司数量还是产业链的完整性，都与其他国家有数量级的差距。不知是好是坏，这次由于举办地点的缘故，这个优势被很好地隐藏了起来。黄老师的发言让大家意识到：若不把中国这个变量放进来看，任何对氧化镓未来的推估都称不上完整。最后，主办方也期许整个氧化镓社群朝这个方向共同努力，期待在下一届——日本冈山的 IWGO 2028——真正让氧化镓大放异彩。

        若说 IWGO 呈现的是氧化镓在实验室里的可能性，那么几周后的 SEMICON Taiwan，看到的就是同一件事在产业现场的成色。SEMICON Taiwan 一直以来都是传统半导体的主力宣传战场，这两年由于 AI 技术的爆发，今年的厂商规模与参展人数更是创下新高。各类与 AI 相关的技术百花争艳，从硅光子到数据中心机柜应有尽有。也由于数据中心对于高电压的需求增高，氧化镓作为次世代功率组件的候选者，今年也零星出现在几家材料与设备厂商的摊位之中，例如日本的 NCT 与 FOX。虽然仍是配角，但至少已不再是一个需要从头解释的名词。

        有趣的是，产业现场关心的问题，与 IWGO 会场上的讨论几乎不在同一个层次。学界热烈争论的晶面选择与缺陷成因，在这里几乎不会被问起；取而代之的是四个极为直接的问题：良率多少？成本多少？何时能量产？现在谁在用？而这四个问题，恰好正是氧化镓目前最难回答的部分。这样的落差并不令人意外——它本来就是任何新材料从实验室走向产线时必经的那道门坎；但亲身在两个场合之间来回一次，感受会格外清楚。

        从 IWGO 到 SEMICON Taiwan，短短几周走过技术与产业的两端，我的结论其实很朴素：氧化镓的技术可能性已经被证明得足够多了，接下来要证明的是产业现实——一个良率可控、价格可谈、性能明确的组件。距离 2028 年冈山的下一届 IWGO 还有两年，这或许正是把「可能」变成「现成」的时间窗口。

        截至目前，NextGO Epi 已将各规格产品交付至以欧洲为核心、延伸至亚洲的数十家客户，涵盖功率器件研发单位、材料验证实验室与设备产线客户，产品阵容与产能仍在持续扩充。