【会议论文】射频功率对射频磁控溅射法生长的氧化镍薄膜电性能的影响

        论文简介：来自工学院大学和日本NCT的A. Ishikawa、M. Murayama、T. Yamaguchi、T. Honda、K. Sasaki、A. Kuramata和T. Onuma联合发表的一篇名为《Impact of RF power on electrical property of NiO films grown by RF magnetron spattering》的论文文章。该文章介绍了射频功率对射频磁控溅射法生长的氧化镍薄膜电性能的影响。