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【会员新闻】中山大学用于大面积、低剂量 X 射线成像的纳米晶 Ga₂O₃-NiO 异质结的制备

日期:2023-07-07阅读:207

        近期,中山大学陈军教授研究团队采用电子束蒸发技术制备了由纳米晶 Ga2O3 薄膜和 NiO 薄膜组成的 p-n 异质结,其表现出 6.0 × 104 的大电流整流比,并研究了具有优化 NiO 厚度的 Ga2O3/NiO 异质结的 X 射线探测光电导增益机制,实现了高内部增益、高灵敏度、低检测限和短响应时间,经过优化的 10 × 10 像素探测器显示出均匀的 X 射线响应,这证明了它们在大面积 X 射线成像中具有广阔的应用前景。相关研究成果以“Fabrication of nanocrystalline Ga2O3-NiO heterojunctions for large-area low-dose X-ray imaging”为题发表在Applied Surface Science上。

摘要

        Ga2O3 光电导体具有宽带隙、相对较大的密度和对低能 X 射线的高吸收系数,有望实现高灵敏度低能 X 射线探测,因此使用 Ga2O3 薄膜实现 p-n 异质结对于大面积、低剂量 X 射线成像至关重要。本文通过电子束蒸发技术成功制备了由纳米晶 Ga2O3 薄膜和 NiO 薄膜组成的 p-n 异质结,其具有 6.0×104 的大电流整流比。该 p-n 异质结表现出大的价带偏移达 1.7 eV、大的导带偏移达 0.84 eV 和界面区域附近 0.2 eV 的内置电位,有利于光生载流子的分离和迁移。此外,研究了具有优化 NiO 厚度的 Ga2O3/NiO 异质结的 X 射线探测光电导增益机制,实现了高内部增益(3.3×103)、高灵敏度(3.4×104 μC·Gyair-1·cm-2)、低检测限(42 μGyair·s-1)和短响应时间(2.2 ms)。经过优化的 10×10 像素探测器表现出均匀的 X 射线响应,表明它们在大面积 X 射线成像应用领域具有广阔的应用前景。

文章信息:

Z. Zhang, M. Chen, R. Zhan, et al. Fabrication of nanocrystalline Ga2O3-NiO heterojunctions for large-area low-dose X-ray imaging. Appl. Surf. Sci., 2022, 604, 154623.

DOI: 10.1016/j.apsusc.2022.154623