【会议论文】MOCVD生长的氧化镓（铝）薄膜、异质结构和原位电介质

        论文简介：来自加州大学圣芭芭拉分校和犹他大学电气和计算机工程学院的Sriram Krishnamoorthy、Arkka Bhattacharyya、Praneeth Ranga、Saurav Roy和Carl Peterson联合发表了一篇名为《MOCVD-grown Gallium (Aluminum) Oxide thin films, heterostructures and in-situ dielectrics 》的论文文章。该文章介绍MOCVD生长的氧化镓（铝）薄膜、异质结构和原位电介质。