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【国内新闻】氧化镓功率器件和DUV光电器件合集(1)

日期:2023-10-20阅读:232

01 氧化镓各向异性光电特性

        β-氧化镓(β-Ga2O3)因具有超宽的禁带宽度(Eg = 4.9 eV)而被认为是继GaN和SiC之后的“第四代半导体”材料。β-Ga2O3目前已被广泛应用于日盲紫外探测器中,包括PN型、PIN型、Schottky型和光电导型多种器件结构。目前已报道的光响应度高达4000 A/W,响应时间低至12 ns。并且,β-Ga2O3的击穿场强高达8 MV/cm,Baliga优值达到3400,也是制备高压电子器件的理想材料。垂直结构的Schottky二极管已具有超过3000 V的高击穿电压,带有场板结构的β-Ga2O3 MOSFET达到了8.03 kV的超高击穿电压。除此之外,β-Ga2O3属于单斜晶系(空间群C2/m),具有较低的晶格对称性,因此在光学、光电、电输运、机械,导热和化学蚀刻等方面都具有丰富的各向异性特性,深入理解β-Ga2O3的各向异性性能对于可靠制备高性能器件具有十分重要的意义。

        近日,山东理工大学张永晖课题组综述报道了β-Ga2O3各向异性光学和电学性能。β-Ga2O3各向异性性质根源于其低对称的晶格结构,作者首先详细论述了β-Ga2O3晶胞内Ga/O原子的不同占位,GaIO4四面体和GaIIO6八面体两条原子链,这是β-Ga2O3可以如二维材料一样被机械剥离的根本原因。然后,文章着重讨论了包括光学带隙,拉曼光谱,发光光谱在内的各向异性光学特性。介绍了偏振拉曼光谱的测试技术,结合β-Ga2O3的拉曼张量计算了三种不同模式下拉曼光谱的强度分布函数。最后,重点综述了日盲紫外偏振光探测器的相关研究进展,指出了三种偏振光探测器的工作机制并进行了理论分析。

        β-Ga2O3各向异性特性丰富,深入理解并利用β-Ga2O3的各向异性性质,对于深度开发β-Ga2O3的器件应用具有重要意义。

        该文章以题为“Anisotropic optical and electric properties of β-gallium oxide”发表在Journal of Semiconductors上。

图1. β-Ga2O3的各向异性晶体结构。(a) β-Ga2O3的单位晶胞。(b) 具有GaIO4四面体和GaIIO6八面体链的2 × 2细胞。(c) β-Ga2O3纳米带机械剥离的工艺流程。(d) 典型β-Ga2O3纳米带的AFM结果。(e) β-Ga2O33晶格结构。(f) β-Ga2O3沿[44, 0, -5]方向的立体投影图,(g) 投影平面,(h) 电子衍射图,(i) 投影图。(j) β-Ga2O3沿[100]方向的立体投影图,(k) 投影平面,(l) 电子衍射图,(m) 投影图。

doi: 10.1088/1674-4926/44/7/071801

 

02 表面位错在W/β-Ga2O3肖特基二极管中的隧道效应

        本文分析了不同温度下,通过局域磁场溅射法制备的W/β-Ga2O3肖特基二极管。首先,研究发现,随着温度从100 K升高到300 K,肖特基势垒高度逐渐升高,室温时达到1.03 eV。而理想因子随温度的升高而降低,但在100 K温度下仍然高于2。明显偏高的理想因子数值与隧道效应相关。其次,串联电阻和导通电阻随温度升高而减小。最后,通过隧穿电流揭示了界面位错的特性。较高的位错密度表明,位错导致的隧道效应在传输机制中起到主导作用。所有这些发现都将为设计性能更优异的器件提供助力。

        该文章以题为“Tunneling via surface dislocation in W/β-Ga2O3 Schottky barrier diodes”发表在Journal of Semiconductors上。

图1. W/β-Ga2O3 SBD的SEM截面图。

doi: 10.1088/1674-4926/44/7/072801

 

03 击穿电压2.83 kV, 功率品质因子5.98 GW/cm2的双层NiO/β-Ga2O3垂直异质p-n结二极管

        由于p型掺杂技术缺乏,导致Ga2O3功率器件终端设计难度大。本文采用双层结终端扩展结构(DL-JTE)制备了高性能的NiO/β-Ga2O3垂直异质结二极管(HJDs),其双层结终端扩展结构由两层不同长度的p型NiO组成。底部60 nm p型NiO层完全覆盖β-Ga2O3表面,上层60 nm p型NiO层比方形阳极电极大10 μm。与单层JTE相比,双层JTE结构能有效抑制电场浓度,使击穿电压从2020提高到2830 V。此外,双层p型NiO允许更多空穴注入Ga2O3漂移层从而减小漂移电阻,比导通电阻从1.93降低到1.34 mΩ·cm2。采用DL-JTE结构的器件功率品质因子(PFOM)为5.98 GW/cm2,是传统单层JTE结构的2.8倍。这些结果表明,双层结终端扩展结构提供了一种制备高性能Ga2O3异质结二极管的可行方法。

        该文章以题为“2.83-kV double-layered NiO/β-Ga2O3 vertical p-n heterojunction diode with a power figure-of-merit of 5.98 GW/cm2”发表在Journal of Semiconductors上。

图1. DL-JTE/ JTE器件的截面示意图。

图2.  HJD的模拟电场分布:(a) JTE, (b) DL-JTE在-2020 V的偏置,(c) DL-JTE在-2830 V的偏置,以及(d-f)相应的电场随位置的分布。

doi: 10.1088/1674-4926/44/7/072802