【外延论文】喷雾热分解法制备的 β-Ga₂O₃ 薄膜后退火温度对性能的影响

        由俄罗斯圣光机大学的研究团队在学术期刊 Physics of the Solid State 发布了一篇名为 Effects of Post-Annealing Temperature on the Properties of β-Ga₂O₃ Thin Films Prepared by Spray Pyrolysis（喷雾热分解法制备的 β-Ga₂O₃  薄膜后退火温度对性能的影响）的文章。

摘要

        采用喷雾热分解法沉积了 Ga₂O₃ 多晶薄膜。将薄膜分别在 700、900 和 1100°C 下退火 2 h，然后研究了薄膜的晶体结构、表面形貌和光学性能。随着退火温度的升高，薄膜的平均晶粒尺寸从约 6 nm 增加到 21 nm，β-Ga₂O₃ 的（400）晶面摇摆曲线的半高宽从 1.29°减小到 0.38°。退火温度的升高控制着薄膜中的相形成。在 700°C 下退火时，Ga₂O₃ 薄膜未完全转变为 β 相。而在 900°C 及以上温度退火时，薄膜中的 Ga₂O₃ 全部为 β-Ga₂O₃。此外，退火温度的升高导致 Ga₂O₃ 薄膜的微应变发生变化，从而导致带隙减小。这些发现突显了退火温度在控制 Ga₂O₃ 薄膜的结构和光学性能方面起着关键作用，使其成为提高 β-Ga₂O₃ 薄膜质量的关键参数。

原文链接：

https://doi.org/10.1016/j.ceramint.2025.04.412