【会议论文】通过雾化CVD法在ϵ-GaFeO₃基材上生长的单层κ-Ga₂O₃薄膜

        论文简介：来自京都工艺纤维大学、明治大学明治可再生能源实验室和金沢工业大学的西中浩之、上田 修、池永 训昭、莲池 纪幸和吉本 昌广联合发表了一篇题目为《Single-domain κ-Ga₂O₃ thin films grown on ϵ-GaFeO₃ substrates by mist CVD》的论文文章。该文章介绍的是氧化镓的生长方面。