【会议论文】氢气环境下的β-Ga₂O₃各向异性热刻法制造用于光学集成器件的深宽比DBR结构

        论文简介：来自上智大学、Sophia光子学研究中心和Sophia半导体研究所的Y. Yamazaki，T. Monma，T. Aikawa和A. Kikuchi联合发表了一篇名为《Fabrication of high aspect DBR structures for optical integrated devices by hydrogen environment anisotropic thermal etching of β-Ga₂O₃》的论文文章。该文章主要介绍了β-Ga₂O₃的测试反馈。