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【外延论文】(准)对称性驱动的相干界面和织构在(001)金刚石上外延生长的 β-Ga2O3 薄膜中的作用

日期:2025-11-07阅读:84

      由美国亚利桑那州立大学的研究团队在学术期刊 Journal of Applied Crystallography 发布了一篇名为 (Pseudo-)symmetry-driven coherent interfaces and texture in epitaxial β-Ga2O3 thin films on (001) diamond((准)对称性驱动的相干界面和织构在(001)金刚石上外延生长的 β-Ga2O3 薄膜中的作用)的文章。

摘要

      在 (001) 金刚石衬底上通过 β-(Al/Ga)2O3 缓冲层外延生长的 β-Ga2O3 薄膜呈现出强烈的取向性,其多个旋转取向域变体共享共同的生长轴。该取向特征可归因于两个相互关联的结构与几何因素:(1) 氧亚晶格的高对称性导致生长方向存在伪对称性,使得决定面内晶格失配的不同晶面间距极为接近,从而形成两种不同的晶体学关系及域变体类型; (2) β-Ga2O3 的 C2/m 单斜晶结构缺乏高阶对称性,而金刚石衬底的高对称性导致多种亚变体形成。薄膜微观结构主要由晶域簇构成,各晶域相对于生长轴 [102] 旋转约 60° 或 120°(±10°)。部分晶界(DB)在截面投影与平面投影中近端面可见,且具有高度相干性。这些高相干晶界通常伴随晶界附近微小晶格旋转和/或畸变,出现在预期存在微小面内/面外晶格失配的区域。域间较大晶格失配则通过晶界附近较大的晶格旋转和/或畸变,以及晶界结构与形态的改变来补偿。理解 β-Ga2O3 中织构的起源及常见平面缺陷的特性,将揭示其对热电输运性能的影响机制,并为实现高效微结构优化、成功集成至未来电力电子器件奠定基础。

 

原文链接:

https://doi.org/10.1107/S1600576725008283