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【器件论文】溶液法制备的 Ga₂O₃ 覆层用于改善 CuBi₂O₄ 水还原光阴极的电子提取性能

日期:2025-11-19阅读:44

        由金陵科技学院的研究团队在学术期刊Materials Science in Semiconductor Processing发布了一篇名为Solution-processed Ga2O3 overlayers for improved electron extraction in CuBi2O4 water-reduction photocathodes(溶液法制备的 Ga2O3 覆层用于改善 CuBi2O4 水还原光阴极的电子提取性能)的文章。

摘要

        p–n 结的建立对于提高光解水效率至关重要。然而,由于材料导电性差及载流子分离不足,其实际光电化学(PEC)性能常与理论预测存在显著差距。本研究提出了一种后处理策略,以构建 CuBi2O4/Ga2O3 埋入型 p–n 结。通过对物理表征与电化学测试的综合分析发现,Ga2O3 的引入显著减缓了 CuBi2O4 表面的载流子复合,促进了光生电子-空穴对的传输,并提升了载流子分离效率。结果,该方法有效改善了 PEC 光解水性能。优化后的 CuBi2O4/Ga2O3 光阴极实现光电流 −0.324 mA/cm2,相较于纯 CuBi2O4 提升 18.2%。

 

原文链接:

https://doi.org/10.1016/j.mssp.2025.110216