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【器件论文】具有铜触点的高性能 p-Cu₂O/n-β-Ga₂O₃ 异质结势垒肖特基二极管

日期:2025-12-31阅读:17

        由鹏城实验室联合南方科技大学等研究团队在学术期刊 Nanomaterials 发布了一篇名为High-Performance p-Cu2O/n-β-Ga2O3 Heterojunction Barrier Schottky Diodes with Copper Contact(具有铜触点的高性能 p-Cu2O/n-β-Ga2O3 异质结势垒肖特基二极管)的文章。

摘要

        本研究展示了采用铜作为低功函数阳极金属,制备高性能 p 型 Cu2O/n 型 β-Ga2O3 异质结障壁肖特基(JBS)二极管的方法。通过将 Cu2O 间距优化至 4 μm,器件实现 0.78 V 导通电压、1700 V 击穿电压及 5.91 mΩ·cm2 的导通电阻率,功率优值达 0.49 GW/cm2。该 JBS 二极管在 300–425 K 温度范围内展现出稳定的电学特性。经 200 V 反向应力 5000 秒测试,其导通电压仅衰减 4.16 %,动态单位导通电阻变化仅增加 1.15 倍,彰显出优异的抗应力退化性能。这些结果表明,Cu2O/Ga2O3 JBS 二极管有望成为下一代高效高压电力电子应用的理想候选器件。

 

原文链接:

https://doi.org/10.3390/nano15241840