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【其他论文】氮离子注入 Ga₂O₃ 中的光吸收与发射受动态缺陷退火调控
日期:2026-02-26阅读:83
由挪威奥斯陆大学的研究团队在学术期刊 Advanced Optical Materials 发布了一篇名为 Optical Absorption and Emission in Nitrogen-Implanted Ga2O3 Controlled by Dynamic Defect Annealing(氮离子注入 Ga2O3 中的光吸收与发射受动态缺陷退火调控)的文章。
摘要
本文系统研究了氮离子注入 Ga2O3 材料的光发射与吸收特性,并揭示其与动态缺陷退火调控的多形稳定性之间的关联。研究表明,由辐照温度决定的动态退火过程显著影响 β-Ga2O3 中的无序积累与相变,进而导致注入材料的吸收与发射特性发生调制。具体而言,室温掺杂会诱导 β 相向 γ 相转变,同时增强特征绿色荧光(GL)带。相反,高温掺杂抑制 γ 相形成,并促进强红色发光(RL)的出现。这些结果可通过 β-γ 相变过程中产生的缺陷与掺入氮原子之间的竞争效应来解释。本研究成果有助于深入理解 Ga2O3 中掺杂剂与缺陷的相互作用,以及其多形体光学特性的调控机制。
原文链接:
https://doi.org/10.1002/adom.202503595

