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【会员论文】天津理工大学赵金石教授团队:基于氧空位工程的p-InP/Ga₂O₃异质结实现紫外近红外双波段自供电光电探测

日期:2026-04-14阅读:83

        天津理工大学集成电路科学与工程学院、晶体材料国家重点实验室团队在学术期刊 Materials Science in Semiconductor Processing 发布了一篇名为 UV NIR Dual Band Heterojunction Photodetector Based on p-InP/Ga2O3 with Oxygen Vacancy Engineering 的文章。

        作者团队:王良、刘翰鹏、王娟、何林安、弭伟、王迪、陈蓉蓉、周立伟、朱岩、李晓光、赵金石。

 

背   景

        光电探测器是实现光电转换的核心器件,广泛应用于成像、光通信、遥感及国防领域。

        紫外(UV)波段背景噪声极低且抗干扰能力强,近红外(NIR)波段光谱资源丰富,开发UV/NIR双波段探测器是下一代小型化、高集成探测系统的核心需求。

        传统双波段探测器主要依赖MBE、MOCVD等复杂工艺,受限于晶格失配、成本高及良率低等问题。

        通过将适用于紫外探测的宽禁带氧化镓(Ga₂O₃)与适用于近红外探测的窄禁带磷化铟(InP)进行异质集成,有望利用低成本磁控溅射技术实现双波段响应。

 

主要内容

        本研究采用射频磁控溅射技术在 p-InP 衬底上沉积非晶 Ga₂O₃ 薄膜,通过氧空位(VO)工程协同调控薄膜缺陷与能带结构,成功构筑 p-InP/Ga₂O₃ 异质结光电探测器,实现零偏压下 UV NIR 双波段自供电探测。

        1. 材料与器件制备

        以高纯 Ga₂O₃ 为靶材,分别在 p InP 与 Al₂O₃ 衬底上溅射成膜;

        调控溅射气氛条件:无氧(w/o O2)、通氧(w O2)、先通氧后无氧(w/o w O2);

        溅射 Ti/Pt 电极,完成异质结器件制备。

        2. 结构与形貌表征

        XRD 谱图与 Raman 光谱表征证实 Ga₂O₃ 为非晶结构;

        AFM 形貌分析显示,通氧条件下薄膜平整度更高,表面粗糙度更低;

        XPS 分析表明:无氧沉积氧空位浓度更高,通氧可显著降低氧空位缺陷比例。

        3. 光电性能测试(零偏压)

        254 nm 紫外:响应度 0.51 mA/W,上升时间 1.38 s,下降时间 0.08 s;

        830 nm 近红外:响应度 0.31 mA/W,上升 / 下降时间均<0.04 s;

        综合性能最优器件为 w/o w O2 复合结构,兼顾低暗电流、高整流比与双波段响应。

        4. 机理与应用验证

        异质结为 I 型能带排列,由内建电场驱动载流子分离,实现自供电运行;

        氧空位有效调控了载流子浓度与响应速率;

        该器件成功应用于紫外 近红外双光信号光通信系统,实现二进制编码传输。

 

创新点

        ●材料体系创新:首次构建 p‑InP 与非晶 Ga₂O₃ 结合,在单一单体器件上实现了紫外-近红外(UV‑NIR) 双波段响应。

        ●工艺低成本优势:采用磁控溅射技术替代 MBE、 MOCVD 等复杂外延工艺,具有流程简便、成本低廉及易于规模化生产等显著优势。

        ●氧空位精准调控:通过溅射气氛的分段调控策略,实现了对氧空位浓度的精准平衡,在协同提升探测响应度的同时有效抑制了暗电流。

        ●自供电与双信道通信应用:器件可在零偏压下实现自供电工作,并成功应用于紫外-近红外双信道安全光通信系统。

 

结   论

        本工作通过氧空位工程与简单磁控溅射工艺,成功制备 p‑InP/Ga₂O₃ 异质结光电探测器,实现零偏压下的紫外‑近红外双波段自供电探测。器件在 254 nm 与 830 nm 均展现出优异的响应性能、高开关比及快速的时间响应,验证了其在双波段光通信系统中的应用潜力。该工作为实现低成本、小型化双波段光电探测芯片提供了一种全新的技术路线。

 

项目支持

        本研究得到以下项目资助:天津市科技重大专项(18ZXJMTG00230)、天津市重点研发计划(24YFXTHZ00200、24YFXTHZ00210)、天津市科技创新引导基金(25YDTPJC00310、25YDTPJC00320、25YDTPJC00350)。

图 1.Ga₂O₃薄膜的表征:(a) Ga₂O₃ 薄膜在 p-InP(100)衬底上的 XRD 图谱,(b) Ga₂O₃ 薄膜在 p-InP(100)衬底上的拉曼散射光谱。(c) Ga₂O₃ 薄膜的光学透射光谱。插图为 Ga₂O₃ 薄膜中 (αhʋ)2 随光子能量hν的变化曲线(Tauc 图)。

图 2. XPS 表征:分别为“w/o O₂”和“w O₂”Ga₂O₃ 薄膜样品的O 1s (a, b) 及Ga2p3/2(c, d) 芯能级谱。

图 3.所制备光电探测器(PDs)在暗态、254 nm 及830 nm 波长光照下的I−V特性曲线: (a) “w/o O₂ PD”, (b) “w O₂ PD”, (c) “w/o-w O₂ PD”。以及对应的所制备光电探测器在不同波长(254 nm and 830 nm)光照下的时间响应特性(瞬态特性): (d) “w/o O₂ PD”,(e) “w O₂ PD” , and  (f) “w/o-w O₂ PD”。

图 4. p-InP/a-Ga₂O₃ 异质结截面载流子传输示意图。(a)异质结形成前的能带图;“w/o O₂ PD”, “w O₂ PD” 和“w/o-w O₂ PD”分别在正向偏压(b, c, d)和反向偏压(e, f, g)下的能带图;“w/o O₂ PD” (h), “w O₂ PD” (i) 和 “w/o-w O₂ PD” (j)在零偏压以及紫外(UV)和近红外(NIR)光照下的能带图

图 5. 光通信信号处理(计算)过程示意图。(a) 两种光照模式下的三个运行周期:模式1:暗态 →830 nm → (254 nm + 830 nm)共同光照→ 830 nm →暗态;模式2:暗态→ 254 nm → (254 nm + 830 nm) 共同光照→ 254 nm →暗态。(b) 光通信应用示例。

 

DOI:

doi.org/10.1016/j.mssp.2026.110657