【会议论文】Mist-CVD工艺中合成条件对α-Ga₂O₃薄膜生长的影响

        论文简介：来自京都大学和立命馆大学的T. Wakamatsu、 H. Takane、K. Kaneko、T. Araki和K. Tanaka联合发表了一篇名为《Influence of synthesis conditions on growth of α-Ga₂O₃ film in Mist-CVD process》的论文文章。该文章主要介绍了对α-Ga₂O₃薄膜生长的影响。