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【外延论文】生长在蓝宝石和 (100) β-Ga₂O₃ 衬底上的受体掺杂 mist CVD Cr₂O₃ 薄膜

日期:2026-07-02阅读:146

        由俄罗斯 Perfect Crystals LLC 的研究团队在学术期刊 Journal of Alloys and Compounds 发布了一篇名为Acceptor-doped mist CVD Cr₂O₃ films grown on sapphire and (100) β-Ga₂O₃ substrates(生长在蓝宝石和 (100) β-Ga₂O₃ 衬底上的受体掺杂 mist CVD Cr₂O₃ 薄膜)的文章。

摘要

        通过雾化学气相沉积(mist-CVD)法,在绝缘性蓝宝石衬底上生长了掺杂不同浓度 Mg、Ni 和 Cu 的 Cr₂O₃ 外延薄膜。随着掺杂浓度的增加,薄膜的导电率提高了几个数量级。在热探针测试中,高导电性薄膜(含约 6 wt% Cu)表现出 p 型特性。这使该团队能够利用通过楚克拉尔斯基法生长并剥离的 n 型 (100) β-Ga₂O₃ 薄片,在类似的生长实验中制备 p-Cr₂O₃/n-Ga₂O₃ 异质结。异质结的电容-电压、电流-电压、导纳谱以及深能级瞬态谱(DLTS)表明,该异质结存在良好的整流特性及低漏电流,且存在能级接近 Ec-0.15 eV、 Ec-0.21 eV、Ec-0.45 eV。本文将 Cr₂O₃:Cu/β-Ga₂O₃ 异质结的特性,与观察到的 NiO/Ga₂O₃ 异质结特性以及已发表的 p-Cr₂O₃(Mg)/β-Ga₂O₃ 异质结研究结果进行了对比。

 

原文链接:

https://doi.org/10.1016/j.jallcom.2026.187824