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【会议论文】利用氢气快速热退火提高非晶态In₂O₃薄膜晶体管的性能
日期:2023-04-24阅读:197
论文简介:来自阿卜杜拉国王科技大学高级半导体实验室的Na Xiao、Chuanju Wang、Saravana Yuvraja和 Xiaohang Li联合发表的一篇名为《Enhanced performance of amorphous In2O3 thin film transistors using hydrogen rapid thermal annealing》的论文文章。该文章介绍了提高非晶态In2O3薄膜晶体管的性能。