【国内论文】APL丨南京大学叶建东教授联合汕头大学团队:实现Ni合金化p型氧化镓突破,构建 2.4 kV 高耐压Ga₂O₃ p-n双极器件
日期:2026-07-23阅读:64
由南京大学叶建东教授联合汕头大学的研究团队在学术期刊 Applied Physics Letters 发布了一篇名为 Valence-band engineering of robust p-type NixGa1-xO enabling Ga₂O₃ p-n bipolar junction(通过价带工程制备稳健的 p 型 NixGa1-xO,实现 Ga₂O₃ p-n 双极结)的文章。
背 景
β-Ga₂O₃ 拥有 4.9 eV 超宽禁带与 8 MV/cm 理论击穿电场,是下一代高压功率电子器件核心候选材料,现有氧化镓器件均为单极型肖特基二极管、MOSFET,缺少高性能双极功率器件,核心瓶颈是无法实现稳定可激活 p 型 Ga₂O₃。常规氮、镁、锌受主掺杂易形成深能级缺陷,受空穴自俘获、高有效质量制约,难以产生有效导电空穴,该缺陷普遍存在于氧化锌、氧化镓等宽禁带氧化物体系。现有改良思路依靠轨道杂化抬高价带顶,但铋、铱掺杂体系制备成本高、薄膜均匀性差;NiO 本征 p 型导电且与 Ga³⁺ 离子半径匹配,具备合金化改性潜力,但当前研究仅停留在薄膜基础物性表征,未系统研究 Ni 组分对价带结构、输运特性的调控规律,也未构建兼具高整流比、高反向耐压的完整 Ga₂O₃ p-n 双极功率二极管,缺少一套兼顾价带调控、相结构优化、器件电场优化的完整方案,是宽禁带双极器件领域关键研究空白。
主要内容
可靠 p 型超宽禁带半导体的缺失,是实现氧化镓基双极功率器件的根本阻碍。该团队通过镍合金化 Ga₂O₃(NixGa1-xO)开展价带工程,实现稳定 p 型导电。NixGa1-xO 中强 Ni 3d-O 2p 轨道杂化重塑价带结构、抬高价带顶,当镍组分 x>0.3 时薄膜可实现空穴输运。Ni 组分从 0.32 提升至 0.62 时,跳跃激活能降至 0.06 eV,空穴浓度可达~10¹⁸ cm⁻³,电阻率约 40 Ω・cm,同时维持 4.5–4.1 eV 宽禁带。制备的 p-Ni0.62Ga0.38O/n-Ga₂O₃ 二极管具备清晰正向双极导通调控特性,±3 V 下整流比高于 10¹⁰;采用 Ni0.32Ga0.68O/Ni0.62Ga0.38O 双层结构可将反向耐压提升至 2.4 kV。该研究证明镍合金化 Ga₂O₃ 是适用于氧化镓双极功率器件的高性能 p 型超宽禁带材料。
创新点
①在 NixGa1-xO 合金中利用 Ni 3d-O 2p 轨道杂化抬高价带顶,x>0.3 组分薄膜实现室温稳定 p 型导电。
②揭示 NixGa1-xO 随镍组分变化的物相转变规律及跳跃输运激活能变化趋势。
③制备单层 p-Ni0.62Ga0.38O/n-Ga₂O₃ 二极管,±3 V 整流比高于 10¹⁰。
④提出梯度 p 型双层复合层结构重新分配结区电场,将器件反向击穿电压提升至 2416 V。
结 论
综上,将 Ni 引入 Ga₂O₃ 体系可依靠强 Ni 3d-O 2p 轨道杂化实现高效价带调控,抬高价带顶,在 x>0.3 的 NixGa1-xO 合金中获得稳定 p 型导电,同时禁带宽度小幅收窄。结构、光学与输运表征共同证实,轨道杂化引起的价带顶上移降低跳跃激活能,激活 Ni 基受主,实现最高 10¹⁸ cm⁻³ 空穴浓度。基于该电子结构调控,p-Ni0.62Ga0.38O/n-Ga₂O₃ 双极二极管可实现双极正向导通,±3 V 整流比大于 10¹⁰;采用双层梯度 p 型结构可将反向击穿电压提升至 2.4 kV。该研究证明三元 NixGa1-xO 薄膜是制备稳定 p 型导电层的理想体系,为氧化镓基双极功率器件提供可行技术路线。
项目支持
本研究得到国家自然科学基金(62234007、62425403、62293522、623B2046、12374073)、江苏省科技重大专项(BG2024030、BK20253003)、广东省基础与应用基础研究基金(2023A1515010556、2024A1515012961)、李嘉诚基金会(2024LKSFG01)、江苏省研究生科研与实践创新计划(KYCX24_0142)资助。

图 1 (a) 生长于 c 面蓝宝石衬底 NixGa1-xO 薄膜 X 射线衍射图谱;(b) Ni 组分 x 与 NixGa1-xO 光学带隙、面外晶格常数对应关系曲线;(c) x=0.17、x=0.51 组分 NixGa1-xO 截面高分辨透射电镜图,插图为对应快速傅里叶变换图谱。

图 2 (a) 不同 Ni 组分 NixGa1-xO 薄膜电阻率、空穴浓度、迁移率变化曲线,标注 450 K 与室温霍尔测试区间;(b) 代表性薄膜 ln (ρ/T) 随 1/T 变化阿伦尼乌斯曲线,红色为线性拟合线。

图 3 (a) NixGa1-xO 价带重构机理示意图;(b) 纯 Ga₂O₃、纯 NiO 及不同 Ni 组分 NixGa1-xO 价带 X 射线光电子能谱;(c) Ga₂O₃、NiO、NixGa1-xO 合金的价带顶 (EV)、导带底 (EC) 相对真空能级 (Evac) 位置。

图 4 (a) 垂直结构 NixGa1-xO/Ga₂O₃ 双极二极管截面结构示意图;(b) 电流密度-电压线性曲线与提取的比导通电阻随正向偏压变化曲线;(c) S1、S2 两款 NixGa1-xO/Ga₂O₃ 双极二极管半对数 J-V 曲线,插图为不同正向偏压下提取的理想因子。

图 5 (a) S1、S2 器件反向击穿特性曲线;(b) Silvaco TCAD 软件仿真得到两款器件各自击穿电压下的二维电场分布云图,右侧面板为器件边缘电场等高线放大图;(c) 击穿条件下沿阳极中心纵向截面提取的器件电场分布曲线。
DOI:
doi.org/10.1063/5.0316209









