【国内论文】J. Phys. Chem. Lett.丨陕西科技大学团队开发高可靠 Ga₂O₃ 异质结忆阻器,推动神经形态计算发展
日期:2026-07-24阅读:32

由陕西科技大学的研究团队在学术期刊 The Journal of Physical Chemistry Letters 发布了一篇名为 Filament Confinement Engineered Heterostructure Memristors for Reliable Artificial Synaptic Applications and Neuromorphic Computing(导电丝限域工程异质结忆阻器用于高可靠人工突触与神经形态计算)的文章。
背景
人工智能快速发展推动存内计算硬件需求激增,传统冯诺依曼架构存在存储与计算分离瓶颈,海量数据实时处理效率低下。忆阻器结构简单、功耗低、开关速度快,电导可随电压动态调控,能模拟生物突触权重变化,是神经形态计算核心硬件。非晶 Ga₂O₃ 带隙宽、化学热稳定性优异,是极具潜力的阻变介质,但单层 Ga₂O₃ 忆阻器存在开关电压波动大、循环稳定性差、电导连续调制能力不足等缺陷,难以搭建高精度人工神经网络。现有优化手段多为单一薄膜改性,异质结对导电丝生长限域机制缺少系统研究。本文设计 a-TiO₂/a-Ga₂O₃ 双层异质结阻变层,利用界面内建电场调控氧空位迁移路径,实现导电丝有序成核生长;系统对比单层与异质结器件电学、突触性能,解析界面能带对齐带来稳定性提升机理,为宽禁带氧化物高可靠忆阻器与类脑计算器件提供界面工程新策略。
主要内容
氧化镓(Ga₂O₃)凭借宽禁带、氧敏感特性与优异光电性能,在忆阻器领域获得广泛研究,但现有氧化镧器件普遍存在开关电压偏高、稳定性不足的问题。本文制备基于 a-TiO₂/a-Ga₂O₃ 异质结的高稳定阻变忆阻器;与单层器件相比,异质结器件综合性能大幅提升,开关比提升一个数量级以上,数据保持特性超过 10⁴ s,耐久循环超 500 次,同时具备稳定的长时增强/长时抑制(LTP/LTD)突触特性。器件高稳定性来源于异质结对氧空位迁移路径的引导作用,氧空位可有序聚集,在 a-TiO₂/a-Ga₂O₃ 内部形成结构稳定的导电丝。该研究不仅为调控 Ga₂O₃ 基忆阻器性能提供高效优化方案,也为高性能人工神经网络计算系统的发展奠定基础。
创新点
①构建 a-TiO₂/a-Ga₂O₃ 双层异质结忆阻器,依靠界面内建电场限域氧空位,实现有序导电丝生长,解决单层 Ga₂O₃ 器件稳定性差、电压离散问题;
②异质结器件开关比提升 1 个数量级,保持寿命>10⁴ s,耐久循环超 500 次,Set/Reset电压标准差大幅降低,器件均匀性显著提升;
③完整复现短时可塑性(PPF)、长时增强/抑制(LTP/LTD)等全套生物突触行为,脉冲调控下电导连续线性可调;
④通过能带对齐、输运拟合证实界面势垒调控载流输运,阐明导电丝限域稳定化物理机理;
⑤基于该异质结器件搭建三层感知神经网络,手写数字 MNIST 识别准确率达 92.65%,具备实用神经形态计算潜力。
总结
综上,本文通过构筑 a-TiO₂/a-Ga₂O₃ 异质结构制备高稳定阻变忆阻器。实验结果表明,异质结器件具备优异综合性能:开关比提升一个数量级以上、数据保持性能超过 10⁴ s、耐久循环超 500 次,可实现多级电导调制与稳定长时增强/抑制突触特性。异质结性能提升的阻变机理来源于 TiO₂ 夹层诱导的独特空间电荷区,该区域可调控局域电子态,在 a-TiO₂/a-Ga₂O₃ 体系内限域形成结构稳定的导电丝。本文基于该异质结忆阻器搭建仿生人工神经网络,在手写数字 MNIST 识别任务中实现 92.65% 的高识别准确率。该异质结构筑策略可有效提升非晶 Ga₂O₃ 忆阻器阻变性能,推动其在存储与神经形态计算领域的应用。
项目支持
本研究得到陕西省教育厅重点科研项目(25JR033)、陕西省自然科学基金(2025JC-YBMS-001)、国家自然科学基金(11905119)、陕西省创新能力支撑计划(2024CX-GXPT-21)以及陕西省高校青年创新团队资助。

图 1 (a) W/a-TiO₂/a-Ga₂O₃/Pt 异质结器件结构与制备流程示意图;(b) a-Ga₂O₃ 薄膜 SEM 表面形貌图;(c) a-Ga₂O₃ XRD 图谱;(d) a-TiO₂ XRD 图谱;(e) a-Ga₂O₃ Ga 3d 高分辨 XPS 谱;(f) a-Ga₂O₃ O 1s 高分辨 XPS 谱;(g) a-TiO₂ Ti 2p 高分辨 XPS 谱;(h) a-TiO₂ O 1s 高分辨 XPS 谱

图 2 (a) 单层 a-Ga₂O₃ 器件循环 I-V 曲线;(b) 单层 a-Ga₂O₃ 耐久特性;(c) 单层 a-TiO₂ 循环 I-V 曲线;(d) 单层 a-TiO₂ 耐久特性;(e) a-TiO₂/a-Ga₂O₃ 异质结循环 I-V 曲线;(f) 异质结耐久特性;(g) 三类器件 Set 电压统计分布;(h) 三类器件 Reset 电压统计分布

图 3 (a) 不同限制电流下异质结 I-V 特性;(b) 负向连续扫描 I-V 曲线;(c) 高低阻态 10⁴ s 保持特性;(d) 不同复位电压下保持曲线;(e) Set 过程开关响应时间;(f) Reset 过程开关响应时间;(g) 500 次脉冲循环耐久;(h) 电阻累积概率分布;(i) 30 支器件开关电压统计

图 4 (a) 正向扫描对数 I-V 拟合曲线;(b) 高阻区 I-V¹·³ 关系;(c) 低阻区欧姆导电拟合;(d) 负向扫描对数 I-V 曲线;(e) 负向高阻区 I-V²·⁵ 拟合;(f) 负向中高阻区 I-V¹·⁶ 拟合;(g) 异质结能带对齐示意图;(h) 初始、Set、Reset 三态氧空位导电丝演化模型

图 5 (a) 忆阻器仿生突触结构示意图;(b) 连续三角脉冲诱导突触增强;(c) 连续三角脉冲诱导突触抑制;(d) 双脉冲易化 PPF 特性;(e) 不同幅值正向脉冲诱发兴奋性突触后电流 EPSC;(f) 不同幅值负向脉冲诱发抑制性突触后电流 IPSC;(g) 脉冲宽度调控 EPSC;(h) 双脉冲幅值依赖 EPSC;(i) 连续正向脉冲电导上调;(j) 连续负向脉冲电导下调;(k) LTP 与 LTD 长时可塑性;(l) 突触权重非线性拟合;(m) 多周期交替脉冲电导调制
DOI:
doi.org/10.1021/acs.jpclett.6c01367












