【会员论文】Small丨中山大学郑伟教授联合富加镓业等团队提出光电双钝化策略实现β-Ga₂O₃日盲紫外探测器纳秒级超快响应
日期:2026-09-30阅读:266

由中山大学郑伟教授联合富加镓业科技等团队在学术期刊Small发布了一篇名为Photonic-Electronic Dual-Passivated Ultrafast β-Ga₂O₃ SBUV Photodiode(光电双钝化超快β-Ga₂O₃ SBUV光电二极管)的文章。文章基于富加镓业的高质量衬底,提出光学‑电学双钝化(PEDP)策略,提升日盲紫外探测器响应速度。
除了器件结构设计和器件制备工艺,器件性能还取决于氧化镓单晶衬底的质量。晶体缺陷、位错、表面态会诱发载流子陷阱,带来拖尾衰减、暗电流升高、响应变慢等一系列问题,严重制约探测器的速度与灵敏度。
本研究中,器件所采用的氧化镓单晶衬底摇摆曲线半高宽仅36 arcsec,衍射斑点规整,晶体质量优异,从源头减少晶体内部的陷阱中心,保障了光生载流子的高效输运与分离,为实现超低暗电流、高速响应探测器件打下坚实材料基础。
器件实现零偏压下5.9 ns上升速度和86.8 ns 衰减速度的纳秒级超快响应,同时兼具超低暗电流、高光暗电流比与优异光谱选择性,还完成了探测阵列的原理验证,为高速日盲紫外成像、飞行器尾焰监测、故障预警等应用提供了可行方案,充分展现了高质量氧化镓衬底对高性能光电器件的核心支撑作用。
背 景
日盲紫外光电探测器在飞行器尾焰监测、故障预警等领域亟需超快响应性能,传统红外探测易受日光、复杂热源等背景噪声干扰,虚警率高;而臭氧层会吸收200-280 nm波段紫外光,地表几乎无该波段自然光,日盲紫外探测天然具备抗干扰、低虚警优势,是高速光电成像、紫外预警系统的核心器件。
当前主流β-Ga₂O₃基日盲紫外探测器存在响应速度瓶颈:器件响应同时受RC电路常数、载流漂移、中性区载流扩散、表面缺陷俘获/释放多重过程制约。非耗尽区光生载流依靠浓度梯度缓慢扩散,表面缺陷引发载流反复俘获-脱俘获,形成拖尾光电流,大幅拖慢器件上升、下降时间,无法捕捉瞬变高速光信号,限制高速成像、实时预警场景落地。
现有单一钝化方案仅能单独抑制扩散电流或表面陷阱,无法同步解决两类慢响应损耗机制;同时多数高性能探测器需外加偏压工作,增加系统功耗与电路复杂度。针对以上痛点,本文提出光子-电子双重钝化(PEDP)一体化器件设计策略,基于垂直肖特基二极管结构实现零偏压超快响应,并完成8×8成像阵列集成验证。
主要内容
超快响应是故障预警、飞行器尾焰监测场景中日盲紫外(SBUV)光电探测器(PD)必备特性。本文针对β-Ga₂O₃基日盲紫外光电探测器,提出一种全新光子-电子双重钝化(PEDP)策略,可同时抑制非耗尽区载流扩散与表面俘获-脱俘获动力学过程。经PEDP改性后的器件在0 V偏压下实现5.9 ns超快上升时间与86.8 ns下降时间,响应性能较现有日盲紫外光电探测器高出 2-9 个数量级。该器件在零偏压下同时具备优异综合性能:暗电流0.58 pA,光暗电流比5.04×10⁴,200 nm/350 nm抑制比1.12×10⁴,响应度0.084 A·W⁻¹,外量子效率59.9 %。上述结果验证了PEDP策略用于高速日盲紫外探测的可行性,为高速成像技术发展提供重要研究思路。
创新点
①首次提出光子-电子双重钝化(PEDP)协同优化策略:电子钝化层非晶SiO₂填充表面缺陷,抑制载流俘获/多次脱俘获;光刻胶光子钝化层阻挡非光敏区紫外入射,从源头消除慢扩散载流,同步解决两类拖慢响应的核心损耗机制。
②基于β-Ga₂O₃单晶制备垂直Pt/β-Ga₂O₃/Ti/Au肖特基光电二极管,实现零偏压纳秒级超快响应,上升时间5.9 ns、下降时间86.8 ns,零偏下响应速度较已报道所有日盲紫外器件提升2个数量级以上,为当前零偏β-Ga₂O₃探测器最优响应水平。
③器件零偏下综合性能均衡优异:暗电流低至0.58 pA、光暗电流比5.04×10⁴、紫外可见光抑制比1.12×10⁴,兼具低噪声、高光谱选择性;完成8×8共阴极像素阵列集成,像素均匀性良好,验证了该结构面向高速日盲紫外成像芯片的片上集成可行性。
结 论
本文基于β-Ga₂O₃单晶开发一种超快响应日盲紫外光电探测器,采用PEDP策略,以非晶SiO₂作为电子钝化层、光刻胶作为光子钝化层实现响应速度提升。器件在0 V偏压下实现5.9 ns上升时间与86.8 ns下降时间,是目前报道的零偏下最快响应水平。相较于传统无钝化光电探测器,PEDP策略分别将上升、下降时间提升254 %、291 %,性能较此前报道的其他器件高出2-9个数量级,充分证明该策略对提升响应速度的高效性。同时该器件在零偏压下展现优异综合性能:暗电流低至0.58 pA,光暗电流比5.04×10⁴,200 nm/350 nm抑制比1.12×10⁴,峰值响应度与外量子效率分别为0.084 A·W⁻¹、59.9%。在高性能单像素器件基础上,成功集成8×8平面阵列,阵列像素均匀性优异,具备阵列级日盲紫外成像应用潜力。本工作为超快响应日盲紫外探测提供可行技术路线,也可为其他光电探测器的结构设计提供启发。
项目支持
本研究得到国家自然科学基金(项目编号:62374186)资助。

图 1 超快响应探测原理、技术瓶颈与解决方案示意图。(a)高速日盲紫外成像应用概念示意图;(b)传统PIN、MSM、肖特基型日盲紫外光电探测器结构示意图,以及本文提出的兼具光子、电子双重钝化的PEDP器件结构示意图;(c)本文制备器件与传统日盲紫外光电探测器的响应速度对比图

图 2 PEDP策略提升响应速度机理与单周期响应测试结果。基于β-Ga₂O₃的日盲紫外光电探测器器件结构示意图及其257 nm脉冲激光激发下的单周期响应曲线:(a) 传统无钝化器件;(b) 光子钝化器件;(c) 电子钝化器件;(d) PEDP双重钝化器件。示意图定性展示不同钝化方案对慢速载流收集路径的抑制效果:光子钝化主要通过抑制非光敏区光生载流产生减小扩散延迟分量,电子钝化主要抑制表面陷阱态

图 3 PEDP光电探测器综合性能表征。(a)暗态与246 nm紫外光照下I-V特性曲线,插图为器件光学实物照片;(b)器件存放8个月后257 nm脉冲激光下多周期稳定性测试;(c) 零偏压下器件外量子效率曲线,插图为响应度与光谱抑制比曲线;(d)各类Ga₂O₃基日盲紫外光电探测器上升时间、下降时间、暗电流、工作电压四维性能雷达对比图

图 4 8×8平面阵列光电探测器成像性能。(a) 8×8阵列器件完整制备工艺流程示意图;(b) 阵列实物照片与 (c) 阵列局部光学显微图;(d) 零偏压下阵列成像测试结果,插图为成像所用掩模图案示意图
DOI:
doi.org/10.1002/smll.74814










