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【国内论文】西安邮电大学研究团队基于超长 β-Ga₂O₃ 单晶纳米带的双肖特基结耦合器件及其光电特性的研究

日期:2024-03-08阅读:183

        近日,由西安邮电大学的研究团队在学术期刊《Journal of Semiconductors》发布了一篇名为Dual-Schottky-junctions coupling device based on ultra-long β-Ga2O3 single-crystal nanobelt and its photoelectric properties(基于超长 β-Ga2O单晶纳米带的双肖特基结耦合器件及其光电特性)的文章。

摘要

        采用碳热还原法合成了长度为2-3mm、宽度从几十微米到132μm的高质量β-Ga2O3单晶纳米带。基于生长出的长度为 600 μm 的纳米带,制备出了双重肖特基结耦合器件(DSCD)。由于电浮动 Ga2O3 纳米带区与双肖特基结耦合,电流 IS2 首先增大,并随着电压 VS2 的增大迅速达到饱和。饱和电流约为 10 pA,比单肖特基结低两个数量级。在太阳盲紫外线(UV)照射下,光生电子进一步加剧了器件中的耦合物理机制。IS2 随着紫外线强度的增加而增大。在 1820 μW/cm2 的紫外线照射下,IS2 很快进入饱和状态。在 VS2 = 10 V 时,该器件的光暗电流比(PDCR)达到 104 以上,外部量子效率(EQE)为 1.6 × 103%,检测率(D*)为 7.5 × 1012 Jones。此外,在不同的正负偏压条件下,该器件的上升和衰减时间非常短,仅为 25-54 ms。DSCD 显示出独特的电学和光学控制特性,这将为基于纳米带的器件的应用开辟一条新路。

图 1. (a) 合成的超大纳米颗粒的扫描电镜图,其长度约为 2-3 mm。(b)图(a)中黄色虚线框的放大图。这些纳米颗粒的最大宽度可达 132 μm。(c) 纳米带的 XRD 图。(d) 选定区域的电子衍射图。(e) 纳米带的低分辨率 TEM 图像。(f) 纳米带的高分辨率 TEM 图像。

图 2. (a)器件结构示意图。(b) 实际制造的器件图像。(c) 肖特基结在正偏压下的能带。W 是耗尽层的宽度。(d) S1-O1 和 S2-O2 肖特基结的 I-V 曲线。

原文链接:http://www.jos.ac.cn/en/article/id/87d43897-9269-4cae-855b-d565d7a41e3a