【国际论文】用化学气相沉积法制造的氧化镓薄膜的光学和光电特性

        由尼日利亚马库尔迪联邦农业大学的研究团队在学术期刊《Physica B: Condensed Matter》发布了一篇名为Optical and optoelectronic properties of gallium oxide films fabricated by the chemical vapour deposition method（用化学气相沉积法制造的氧化镓薄膜的光学和光电特性）的文章。

摘要

        本研究探讨了生长时间对化学气相沉积法在硅衬底上制备的β-Ga₂O₃薄膜的结构、光学和光电特性的影响。利用X射线衍射、场发射扫描电子显微镜和紫外-可见分光光度计对制备的薄膜进行了表征。所制备的薄膜表现出混合相（β-α）Ga₂O₃晶体结构。晶粒尺寸在34.98至164.69nm之间。带隙从4.74增加到4.88eV。吸收和消光系数分别为10³和10^-1。折射率、色散能和单振子能随着生长时间的增加分别从1.86增加到1.87，从19.24增加到28.64，从8.36增加到9.54。振子强度、振子波长、三阶非线性光学极化率和折射率的色散依次为10^-4、10^-2、10^-10和10^-9。还评估了载流子浓度、光学导电率、光学迁移率和光学电阻率。此外，还测定了实介电常数和虚介电常数以及等离子体频率。

原文链接：https://doi.org/10.1016/j.physb.2024.415763