【国内论文】脉冲激光沉积制备的 β-Ga₂O₃ 薄膜的微观结构和光学特性

        近期，由沈阳材料科学国家研究中心的研究团队在学术期刊《Thin Solid Films》发布了一篇名为Microstructure and optical properties of β-Ga₂O₃ thin films fabricated by pulsed laser deposition（脉冲激光沉积制备的 β-Ga₂O₃ 薄膜的微观结构和光学特性）的文章。

摘要

        由于其优异的电学性能和热稳定性，β-Ga₂O₃在光电子学和高功率电子器件领域引起了广泛关注。由于在薄膜中有效控制杂质是困难的，生长具有良好结晶度的外延β-Ga₂O₃薄膜具有挑战性。在此，采用脉冲激光沉积系统在MgO（100）衬底上外延生长了β-Ga₂O₃薄膜。通过结合高分辨率X射线衍射、X射线光电子能谱、紫外-可见分光光度计和先进的透射电子显微镜对β-Ga₂O₃薄膜的微观结构和光学性质进行了系统表征。研究了生长温度和O₂分压对β-Ga₂O₃薄膜的结晶度、镓离子的价态以及带隙的影响。β-Ga₂O₃薄膜的光吸收波长范围从220 nm到260 nm，与理论值接近。β-Ga₂O₃薄膜与MgO衬底之间的外延取向为β-Ga₂O₃（100）[0-21] // MgO（100）[010]。在界面区域存在一层γ-Ga₂O₃薄层。

原文链接：https://doi.org/10.1016/j.tsf.2024.140336