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【国际论文】光学浮区生长氧化镓肖特基势垒二极管的研究
日期:2024-06-07阅读:184
近期,由印度科学学院的研究团队在学术期刊Semiconductor Science and Technology发布了一篇名为Study of optical float-zone grown gallium oxide Schottky barrier diode(光学浮区生长氧化镓肖特基势垒二极管的研究)的文章。
摘要
以 Ni/Au 作为肖特基接点,Ti/Au 作为欧姆接点,制备了基于 β-Ga2O3 的横向肖特基势垒二极管。掺杂锡的β-Ga2O3 样品是通过光学浮区法生长的。研究了用于介质隔离的沟槽对击穿电压的影响。就内置电势而言,该器件显示出接近理想的特性。提取了寄生串联电阻和并联电阻,并确定了其与温度的关系。利用热离子发射模型、普尔-弗伦克尔传输模型和福勒-诺德海姆隧穿机制,演示了随温度变化的反向漏电流建模。从偏置和温度依赖性的角度解释了提取相关参数的程序。在很宽的偏置和温度范围内,组合模型与实验数据显示出极好的一致性。最大电场为 2.3 MV cm-1。
原文链接:https://doi.org/10.1088/1361-6641/ad3d03