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【国际论文】用于电子器件应用的 Ga₂O₃ 纳米粒子的合成与表征
日期:2024-07-09阅读:205
近期,由印度 Vidyavardhaka 工程学院的研究团队在学术期刊Inorganic Chemistry Communications发布了一篇名为Synthesis and characterization of Ga2O3 nanoparticles for electronic device applications(用于电子器件应用的 Ga2O3 纳米粒子的合成与表征)的文章。
摘要
氧化镓(Ga2O3)具有4.5至4.9 eV的带隙,使其成为各种器件应用的有潜力的半导体。通过溶液燃烧法合成了Ga2O3纳米颗粒,以研究其结构、电学、介电和弹性机械性能。利用X射线衍射数据进行了Rietveld结构精修,表明合成的β-Ga2O3属于单斜晶系,其晶格参数为a = 12.22 Å,b = 3.04 Å,c = 5.81 Å,β = 103.85°。通过Scherrer公式确定其晶粒大小为36 nm。通过第一性原理计算确定并绘制了沿三维晶体轴的晶粒尺寸。利用6 × 6张量矩阵和ELATE,弹性模量计算显示各向同性的线性压缩性,而其他模量表现出各向异性行为。研究了样品在50 Hz至5 MHz频率范围内,不同温度下的介电性能,如电容、介电常数、介电损耗和交流电导率。
原文链接:https://doi.org/10.1016/j.inoche.2024.112562