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【国际论文】通过共振和三点弯曲技术测量 β-Ga₂O₃ 纳米线的弹性模量

日期:2024-08-16阅读:190

        近期,由拉脱维亚大学的研究团队在学术期刊Beilstein Journal of Nanotechnology发布了一篇名为Elastic modulus of β-Ga2Onanowires measured by resonance and three-point bending techniques(通过共振和三点弯曲技术测量β-Ga2O3 纳米线的弹性模量)的文章。

摘要

        由于近年来对用于各种电子和紫外设备应用的超宽带隙β-Ga2O3薄膜和纳米结构的兴趣,理解Ga2O3纳米线(NWs)的机械性能变得非常重要。在这项工作中,我们使用两种不同的技术——原位扫描电子显微镜共振和原子力显微镜三点弯曲——研究了单个β-Ga2O3纳米线的弹性模量。通过X射线衍射、透射和扫描电子显微镜研究了合成纳米线的结构和形态特性。共振测试得到的平均弹性模量为34.5 GPa,而通过三点弯曲法得到的平均值为75.8 GPa。测得的弹性模量值表明在考虑其在未来纳米级设备中的应用之前,需要对β-Ga2O3纳米线的合成方法进行精细控制,并详细检查其机械性能。

图 1:a) 硅衬底上 β-Ga2O3 NW 的 X 射线衍射图样。b) β-Ga2O3 NW 的 TEM 图像,层间距为 5.7 Å,表明生长方向为 [001]。c) β-Ga2O3 NW 的 TEM 图像,具有正交 (11-2) 和 (-112) 平面,层间距为 2.2 Å,表明生长方向为 [021]。

图 2:a) 在硅衬底上生长的 Ga2O3 纳米晶的扫描电镜图像;b) 具有梯形截面的单个纳米

DOI:doi.org/10.3762/bjnano.15.58