【国内论文】揭示 Ti 和 Ga₂O₃ 纳米线之间的界面工程动力学

        近期，台湾清华大学的研究团队在学术期刊Applied Surface Science发布了一篇名为Unveiling interface engineering dynamics between Ti and Ga₂O₃ nanowire（揭示 Ti 和 Ga2O3 纳米线之间的界面工程动力学）的文章。

摘要

       在本研究中，我们通过原位透射电子显微镜（TEM）观察，研究了Ga₂O₃纳米线（NWs）和钛（Ti）接触在退火过程中界面反应。在Ti/Ga₂O₃界面处观察到薄的Ga₃Ti₂金属间化合物的形成，并且在470 °C退火后，纳米线器件的接触行为从肖特基转变为欧姆接触。通过原位TEM监测Ga₃Ti₂层的演变，发现Ga原子是Ga₂O₃ NW中的主要扩散物质，这从界面的非对称扩散中得到了证明。Ga₃Ti₂金属间化合物有效降低了Ga₂O₃ NW和Ti电极之间的能垒，有助于线性电传输特性的形成。本研究强调了界面工程的重要性，并为未来利用Ga₂O₃ NW的电子应用提供了宝贵的见解。

原文链接：https://doi.org/10.1016/j.apsusc.2024.160612